Nikon, der einstige Pionier der Halbleiter-Fotolithografie, schickt sich an, den unangefochtenen Marktf\u00fchrer ASML mit einer Strategie herauszufordern, die in der Hightech-Branche lange als antiquiert galt: dem Preiswettbewerb. Der neue Nikon-Pr\u00e4sident Yasuhiro \u014cmura k\u00fcndigte gegen\u00fcber der japanischen Wirtschaftszeitung Nikkei an, ArF-Immersionslithografieanlagen signifikant g\u00fcnstiger anzubieten als der niederl\u00e4ndische Marktbeherrscher ASML. \u201eWir fertigen viele Komponenten selbst und haben daher einen Kostenvorteil\u201c, so der promovierte Optikingenieur, der die Entwicklung von Belichtungsanlagen ma\u00dfgeblich vorangetrieben hat. F\u00fcr die Branche ist dies eine bemerkenswerte Kehrtwende eines Herstellers, der im Wettlauf um die Nanometer-Grenze lange als abgeschlagen galt.<\/p>\n
Um die Tragweite dieser Ank\u00fcndigung zu verstehen, muss man die prek\u00e4re Lage Nikons n\u00fcchtern betrachten. F\u00fcr das Gesch\u00e4ftsjahr 2025\/2026 wies der Konzern einen Nettoverlust von 860 Milliarden Yen<\/strong> (rund 5,3 Milliarden Euro<\/a>) aus \u2013 der h\u00f6chste Fehlbetrag in der Unternehmensgeschichte. Haupttreiber war eine au\u00dferplanm\u00e4\u00dfige Abschreibung von 906 Milliarden Yen auf die 2023 \u00fcbernommene deutsche Metall-3D-Drucker-Tochter SLM Solutions. Doch die Misere sitzt tiefer. Der Verkauf von Halbleiter-Belichtungsanlagen, einst Nikons Kerngesch\u00e4ft, ist eingebrochen. Wurden im Gesch\u00e4ftsjahr 2023\/2024 noch elf ArF-Immersionsanlagen ausgeliefert, lag die St\u00fcckzahl in den ersten drei Quartalen des Folgejahres bei exakt null<\/strong>. \u014cmura, der im April 2025 das Amt \u00fcbernahm, beschrieb die Lage in seiner Antrittspressekonferenz als \u201e\u00e4u\u00dferst schwierig\u201c \u2013 und benannte die Halbleiterlithografie als oberste Investitionspriorit\u00e4t.<\/p>\n Der Markt f\u00fcr Lithografieanlagen ist ein Monopol im Wortsinn: ASML kontrolliert \u00fcber 80 Prozent<\/a> des gesamten Marktes, bei ArF-Immersionsanlagen sogar mehr als 90 Prozent. Bei EUV-Belichtern (extremes Ultraviolett) liegt die Quote bei 100 Prozent. 2025 lieferte ASML 48 EUV- und 131 ArF-Immersions-DUV-Anlagen aus, der Umsatz erreichte 32,7 Milliarden Euro (etwa 6 Billionen Yen). Der Auftragsbestand belief sich auf 38,8 Milliarden Euro. Die Zahlenverh\u00e4ltnisse sind erdr\u00fcckend. Dennoch: Selbst bei 3-Nanometer-Chips, dem derzeitigen Hochtechnologie-Standard, werden die meisten Strukturen nicht mit EUV, sondern mit ArF-Immersions-Verfahren belichtet. EUV kommt nur f\u00fcr die feinsten Schichten zum Einsatz; Dutzende andere Ebenen verlangen nach DUV. Und f\u00fcr diese Volumenmarkt kann ASML pro Anlage umgerechnet \u00fcber 13 Milliarden Yen<\/strong> (rund 80 Millionen Euro) verlangen. Ein hoher Preis<\/a>, der Platz f\u00fcr eine g\u00fcnstigere Alternative l\u00e4sst.<\/p>\n Nikons Kalk\u00fcl beruht auf einem fundamentalen Unterschied in der Fertigungsphilosophie. ASML, das aus einer Kooperation der niederl\u00e4ndischen Philips und der deutschen Zeiss hervorging, setzt auf ein globales Zuliefernetzwerk. Deutsche Optiken von Zeiss, US-amerikanische Laser von Cymer (2013 \u00fcbernommen) und japanische Komponenten \u2013 diese arbeitsteilige \u201eOpen Innovation\u201c war die Grundlage f\u00fcr ASMLs explosives Wachstum. Sie macht die Lieferkette aber auch komplex und kostspielig.<\/p>\n Nikon hingegen fertigt zentrale Komponenten wie die optischen Linsen selbst. Was in der Vergangenheit als \u201eSelbstbau-Mentalit\u00e4t\u201c bel\u00e4chelt wurde und ma\u00dfgeblich zu Nikons R\u00fcckstand beitrug, wird nun zum Preiskampf-Vorteil umgem\u00fcnzt. \u201eIn der Kostenkonkurrenz sind wir \u00fcberlegen\u201c, sagt \u014cmura. Durch die vertikale Integration entfallen Margenaufschl\u00e4ge externer Zulieferer, und die Prozesskette l\u00e4sst sich straffer steuern.<\/p>\n Doch der g\u00fcnstigere Preis allein wird Kunden nicht zur\u00fcckholen. Die entscheidende Barriere war bislang die fehlende Kompatibilit\u00e4t der Systeme. Das grundlegende Problem ist optischer Natur: Nikons Linsendesign f\u00fchrte dazu, dass eine f\u00fcr ASML-Maschinen optimierte Fotomaske (die Schablone mit dem Schaltkreis-Muster) auf Nikon-Anlagen ein seitenverkehrtes<\/strong> Abbild erzeugte. Ein Wechsel zu Nikon zwang Kunden, einen separaten Maskensatz anzufertigen \u2013 ein enormer Kosten- und Zeitfaktor.<\/p>\n Mit dem f\u00fcr 2028 geplanten Prototyp der n\u00e4chsten ArF-Immersionsanlage S6xx<\/strong> (numerische Apertur von 1,35) will Nikon diesen Flaschenhals beseitigen. Die Anlage wird laut Unternehmensangaben volle Maskenkompatibilit\u00e4t mit ASML-Modellen bieten und zudem so kompakt konstruiert, dass sie in denselben maschinenbaulichen Footprint passt. Das Ziel ist klar: die Umstellungskosten f\u00fcr den Kunden drastisch zu senken und das Wechselrisiko zu minimieren.<\/p>\nDie unangefochtene Dominanz von ASML<\/h2>\n
Die neue Waffe: Kostenvorteil durch Eigenfertigung<\/h2>\n
Das Kompatibilit\u00e4ts-Paradoxon: Die Maske muss passen<\/h2>\n
Eine taktische Nische oder ein neuer Wettbewerb?<\/h2>\n